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福建真空鍍膜機(jī)鍍膜前的清洗

欄目:行業(yè)新聞 發(fā)布時(shí)間:2021-09-25
材料經(jīng)過(guò)真空鍍膜?機(jī)鍍膜之前,都是要進(jìn)行清洗的,也就是大家目前常說(shuō)的真空清洗工藝,真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。

材料經(jīng)過(guò)廈門真空鍍膜機(jī)鍍膜之前,都是要進(jìn)行清洗的,也就是大家目前常說(shuō)的真空清洗工藝,泉州真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的,因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

一、真空加熱清洗

  將工件放置于常壓或真空中加熱。促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件。促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在真空下,為了得到原子級(jí)清潔表面,加熱溫度必高于450度才行。加熱清洗方法特別有效。但有時(shí),這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒,并同時(shí)分解成碳渣

二、紫外線輻照清洗

  利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中。要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用。形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子。如H203、CO2和N2。其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。


三、氣體沖洗

  1、氮?dú)鉀_洗
  氮?dú)庠诓牧媳砻嫖綍r(shí),由于吸附能小,因而吸留表面時(shí)間短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮?dú)獾倪@種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng),可以大大縮短系統(tǒng)的抽氣時(shí)間。如真空鍍膜機(jī)在放入大氣之前,先用干燥氮?dú)獬淙胝婵帐覜_刷一下再充入大氣,則下一抽氣循環(huán)的抽氣時(shí)間可縮短近一半,其原因?yàn)榈钟璧奈侥苓h(yuǎn)比水氣分子小,在真空下充入氮?dú)夂螅肿酉缺徽婵帐冶谖搅?。由于吸附位是一定的,先被氮分子占滿了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽氣時(shí)間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了,還可以利用氮?dú)鉀_洗法來(lái)清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱,一邊用氮?dú)鉀_洗系統(tǒng),可將油污染消除。

  2、反應(yīng)氣體沖洗
  這種方法特別適用于大型不銹鋼真空鍍膜機(jī)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對(duì)于某些大型真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運(yùn)行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時(shí)對(duì)它們進(jìn)行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是大原子數(shù)的分子如碳?xì)浠衔锏奈廴?,通常要拆卸后重新處理再安裝。而用反應(yīng)氣體工藝,可以進(jìn)行原位在線除氣處理。有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳?xì)浠衔锏奈廴?其清洗機(jī)理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對(duì)金屬表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應(yīng)速率的大小通過(guò)調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來(lái)控制。對(duì)于每一種基材而言,參數(shù)要通過(guò)實(shí)驗(yàn)來(lái)確定.對(duì)于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。


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